Компания Intel недавно дала понять, какие новшества планирует использовать после освоения выпуска чипов по техпроцессу Intel 18A в следующем полугодии. К 2026 году ей предстоит внедрить в массовом производстве оборудование с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV), и монтаж первого литографического сканера ASML такого класса уже начался на площадке в Орегоне.

Как и было обещано в конце лета, китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) успела до конца года завершить разработку литографической машины, позволяющей производить чипы по 28-нанометровому техпроцессу. Это стало большим шагом по сравнению с предыдущими возможностями по выпуску 90-нм процессоров.