• Ровер Curiosity обнаружил на Марсе огромное поле из неправильных сот (3 фото)

    Марсоход NASA Curiosity обнаружил в кратере Гейла обширный участок поверхности, покрытый небольшими многоугольными структурами, напоминающими пчелиные соты. Ранее ровер находил подобные образования, но новая находка по масштабам затмила все предыдущее такие открытия.
    Читать дальше

SiCarrier пообещала Китаю суверенные машины для производства 5-нм чипов без EUV

28 марта 2025 | Просмотров: 3 790 | Гаджет новости

Китай сможет использовать построенное местными компаниями оборудование для производства передовых полупроводников вопреки введённым США санкциям, которые закрыли Пекину доступ к передовым технологиям выпуска чипов, заявили в компании Shenzhen SiCarrier Industry Machines.

Китаю пришлось смириться с санкциями, которые лишили его доступа к передовому литографическому оборудованию для производства чипов, напомнил президент SiCarrier Ду Лицзюнь (Du Lijun), но страна может свободно применять собственные инструменты и выпускать на них чипы по нормам 5 нм. «Возможно, есть способ применять неоптические технологии, то есть использовать наше технологическое оборудование для решения некоторых проблем в области литографии», — заявил господин Ду на выставке Semicon China, которая открылась накануне.

SiCarrier продемонстрировала на мероприятии широкий ассортимент оборудования для травления и осаждения, а также оптические измерительные и инспекционные инструменты. Стенд компании оказался одним из наиболее посещаемых, а всего в выставке приняли участие более 1400 компаний. Ду Лицзюнь предупредил, что многопроходное формирование рисунка может понизить процент выхода годной продукции — только при переходе с 7 нм на 5 нм число этапов производства возрастает на 20 %. Тем не менее, лучше иметь мало чипов, чем вообще не иметь.

Многоэтапное нанесение рисунка, в котором оптическая литография заменяется различными этапами травления и осаждения, считается одной из альтернатив, способных помочь Китаю наладить выпуск продукции по нормам 5 нм — страну лишили доступа к литографическому оборудованию на сверхжёстком ультрафиолетовом излучении (EUV), которое выпускает только ASML. В 2023 году SiCarrier зарегистрировала в Китае патент на технологию многопроходного формирования рисунка. Для этого используется оборудование, работающее в глубоком ультрафиолете (DUV), и печать в четыре прохода, позволяющее получать компоненты, которые соответствуют нормам 5 нм. Решение помогает обходиться без EUV и предполагает снижение стоимости производства.

Основанная в 2021 году SiCarrier Technology полностью принадлежит государственному инвестиционному фонду из Шэнчжэня; её дочерняя компания SiCarrier Industry Machines, начавшая работу в 2022 году, вошла в чёрный список американского минторга наряду со 140 другими китайскими производителями. Оборудование SiCarrier уже применяется китайскими производителями полупроводников, в том числе Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), пишет Reuters со ссылкой на анонимный источник. Компания также сотрудничает с Huawei, стало известно накануне.

Комментарии: 0

В Вашем браузере отключен JavaScript. Для корректной работы сайта настоятельно рекомендуется его включить.